微弧氧化对提升镁合金的耐蚀性具有显著作用，工艺参数间的作用是影响膜层质量的重要因素。主要以AZ31B镁合金为基体，采用正交实验，对电参数(频率、占空比、电流密度)和pH值进行工艺优化，制备微弧氧化膜层，并利用扫描电镜、电化学工作站对微弧氧化膜层的形貌、极化曲线和阻抗谱进行观察与测试。结果表明：占空比对微弧氧化膜层的耐蚀性影响最大，而pH值对微弧氧化膜层耐蚀性影响最小。最佳的微弧氧化工艺参数为占空比10%，电流密度2.2 A·dm-2，频率700 Hz,pH=11，制备的微弧氧化膜层自腐蚀电流密度较基体降低4个数量级。