外电场下单层InSe电子结构的第一性原理计算

刘赵一, 周刚, 王智敏, 赵维乐

桂林电子科技大学学报 ›› 2024, Vol. 44 ›› Issue (03) : 304-309. DOI: 10.16725/j.1673-808X.2022191

外电场下单层InSe电子结构的第一性原理计算

  • 刘赵一, 周刚, 王智敏, 赵维乐
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摘要

由于具有大的塞贝克系数和电导率,单层InSe具有优异的热电性能。采用第一性原理计算方法系统地研究了外电场作用下单层InSe的结构、电子结构和电荷转移。研究结果表明,当电场强度在0~0.6 V/?时,费米能级附近的导带和价带对外电场的作用不敏感,且带隙几乎不随外电场变化。主要是因为施加外电场后,上、下Se-In原子层周围的自由电子发生了转移,使得单层InSe对外电场有屏蔽作用;在屏蔽效应下,单层InSe的结构及其内部化学键受到外电场的影响较小,使得单层InSe的能带对外电场作用不敏感。本研究可为二维材料电子结构和物性的外电场调控机制提供一定的理论参考。

关键词

InSe / 单层InSe / 外电场 / 电子结构 / 第一性原理

中图分类号

O469

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刘赵一, 周刚, 王智敏, 赵维乐. 外电场下单层InSe电子结构的第一性原理计算. 桂林电子科技大学学报. 2024, 44(03): 304-309 https://doi.org/10.16725/j.1673-808X.2022191

基金

国家自然科学基金(11764009)

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