[目的]镀液pH是影响金属电沉积过程的关键因素之一，进而影响着沉积层的组织结构和性能。[方法]采用直流电沉积法在泡沫镍(NF)上制备Ni–Mo–P合金薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)分析了不同pH下所得Ni–Mo–P合金薄膜的晶相结构、微观形貌及元素组成，并通过电化学方法考察了镀液pH对Ni–Mo–P合金薄膜析氢性能及耐蚀性的影响。[结果]在pH为7～11范围内电沉积所得的Ni–Mo–P合金薄膜均呈现非晶态结构，但组织结构及性能有差异。pH为9时所得的Ni–Mo–P合金薄膜表面最为光滑平整，载量最大，并且耐腐蚀性能最好。pH为10时所得Ni–Mo–P合金薄膜的析氢催化活性最佳。[结论]通过调整镀液的pH，可电沉积得到具备不同组织结构及性能的Ni–Mo–P合金薄膜。