亚硫酸盐无氰体系电镀金凸块性能的影响因素

张宁, 李哲, 任长友, 邓川, 王彤, 刘志权

电镀与涂饰 ›› 2024, Vol. 43 ›› Issue (11) : 1-7. DOI: 10.19289/j.1004-227x.2024.11.001

亚硫酸盐无氰体系电镀金凸块性能的影响因素

  • 张宁, 李哲, 任长友, 邓川, 王彤, 刘志权
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摘要

[目的]鉴于先进封装技术向微型化和集成化发展,电镀金凸块成为液晶显示驱动芯片互连的首选。但纯金材料存在强度不足、易形变的问题,因此提升电镀金凸块的力学性能是该领域的研究重点之一。[方法]采用亚硫酸盐无氰体系在晶圆表面电镀金凸块,研究了镀液各组分浓度、工艺参数变化及镀液老化对金凸块性能的影响。[结果]晶圆表面各部位的金凸块外观均一,无漏镀、结瘤、针孔等缺陷,退火后的显微硬度约为90 HV,其力学性能可在较为宽泛的施镀工艺窗口、镀液组分浓度范围及镀液老化过程中保持稳定。[结论]该亚硫酸盐无氰电镀金工艺有望在高密度封装领域得到推广应用。

关键词

无氰电镀 / 金微凸块 / 微观结构 / 显微硬度 / 剪切强度

中图分类号

TQ153.18

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张宁, 李哲, 任长友, 邓川, 王彤, 刘志权. 亚硫酸盐无氰体系电镀金凸块性能的影响因素. 电镀与涂饰. 2024, 43(11): 1-7 https://doi.org/10.19289/j.1004-227x.2024.11.001

基金

广东省重点领域研发计划“电子化学品重点专项”(2023B0101010002); 深圳市高层次人才创新创业计划“重大技术攻关团队”(JSGGKQTD20221101115650008)

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