为了优化电沉积法制备片状氢氧化镁的工艺，采用多物理场耦合方法，对电沉积制备氢氧化镁的过程进行了二维非稳态数值模拟.得到了不同极板间距和极板放置深度下的槽电压、电流密度、电解质流场和气体分布情况，分析了极板参数对电解槽工作过程中电场与流场的影响.研究结果表明，减小极板放置深度会使槽电压降低，但较小的极板放置深度会导致槽内电解质流动性变差，不利于反应的进行.减小极板间距可以增大极板间电解液流速、加强传质、降低槽电压，但同时会导致极板上反应均匀性变差.为了保证电解质流速更快、槽电压更低、电流分布更均匀，应尽量加深极板放置深度，并适当调整极板间距.